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2014-2020年中国电子工程用高纯硅烷行业投资策略及深度研究咨询报告

Annual Research and Consultation Report of Panorama survey and Investment strategy on China Industry

  • 报告编号:975465了解中研普华的实力 研究报告的价值
  • 出版日期:2014年9月报告页码:350页图表数量:200个
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【报告导读】

《2014-2020年中国电子工程用高纯硅烷行业投资策略及深度研究咨询报告》由中研普华电子工程用高纯硅烷行业分析专家领衔撰写,主要分析了电子工程用高纯硅烷行业的市场规模、发展现状与投资前景,同时对电子工程用高纯硅烷行业的未来发展做出科学的趋势预测和专业的电子工程用高纯硅烷行业数据分析,帮助客户评估电子工程用高纯硅烷行业投资价值。

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本报告由中国行业研究网出品,报告版权归中研普华公司所有。本报告是中研普华公司的研究与统计成果,报告为有偿提供给购买报告的客户使用。未获得中研普华公司书面授权,任何网站或媒体不得转载或引用,否则中研普华公司有权依法追究其法律责任。如需订阅研究报告,请直接联系本网站,以便获得全程优质完善服务。

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本报告目录与内容系中研普华原创,未经本公司事先书面许可,拒绝任何方式复制、转载。

内容概况CONTENT OVERVIEW

在激烈的市场竞争中,企业及投资者能否做出适时有效的市场决策是制胜的关键。电子工程用高纯硅烷行业研究报告就是为了解行情、分析环境提供依据,是企业了解市场和把握发展方向的重要手段,是辅助企业决策的重要工具。报告根据电子工程用高纯硅烷行业监测统计数据指标体系,研究一定时期内中国电子工程用高纯硅烷行业生产消费的现状、变化及趋势。电子工程用高纯硅烷报告有助于企业及投资者洞察中国电子工程用高纯硅烷行业市场供需行为,评估中国电子工程用高纯硅烷行业投资价值,为相关企业提供第三方的决策支持。报告内容有助于电子工程用高纯硅烷行业企业、投资者了解市场供需情况,并可以为企业市场推广计划的制定提供第三方决策支持。该报告第一时间为客户提供中国电子工程用高纯硅烷行业年度供求数据分析,报告具有内容翔实、模型准确、分析方法科学等特点。

  本研究咨询报告由中研普华咨询公司领衔撰写,在大量周密的市场调研基础上,主要依据了国家统计局、国家商务部、国家发改委、国家经济信息中心、国务院发展研究中心、国家海关总署、全国商业信息中心、中国经济景气监测中心、中国行业研究网、全国及海外多种相关报刊杂志的基础信息等公布和提供的大量资料,对国际、国内电子工程用高纯硅烷行业市场发展状况、关联行业发展状况、行业竞争状况、优势企业发展状况、消费现状以及行业营销进行了深入的分析,在总结中国电子工程用高纯硅烷行业发展历程的基础上,结合新时期的各方面因素,对中国电子工程用高纯硅烷行业的发展趋势给予了细致和审慎的预测论证。本报告是电子工程用高纯硅烷行业生产、经营、科研企业及相关研究单位极具参考价值的专业报告。

报告目录REPORTS DIRECTORY

第一章 半导体、光伏产业用高纯硅烷概述

1.1 高纯硅烷简介

1.2 高纯硅烷的主要基本性能与质量指标

1.3 高纯硅烷的主要应用领域

1.4 高纯硅烷在发展我国电子工业中的重要作用

第二章 电子特种气体及其应用市场

2.1 电子特种气体概述

2.2 电子特种气体制造中的主要技术方面

2.3 电子特种气体的纯净度要求

2.4 电子特种气体产品市场竞争的焦点问题

2.4.1 对电子特种气体杂质、纯度要求的问题

2.4.2 气体配送及供应问题

2.4.3 储存、使用中的安全性问题

2.4.4 成本性问题

2.5 国内外电子特种气体行业发展概述

2.5.1 境外电子特种气体生产与市场情况

2.5.2 国内电子特种气体行业及其发展

第三章 高纯硅烷气体性能指标及制备、净化的工艺路线

3.1 高纯硅烷的性能指标

3.2 高纯硅烷工业化制备的典型工艺路线

3.2.1 制备工艺法概述

3.2.2 硅化镁合金法制备硅烷

3.2.2.1 工艺过程

3.2.2.2 主要反应

3.2.2.3 工艺特点

3.2.2.4 工艺法存在的问题

3.2.3 三氯氢硅还原法制备硅烷

3.2.3.1 工艺过程

3.2.3.2 主要反应

3.2.3.3 工艺特点

3.2.3.4 工艺法存在的问题

3.2.4 四氟化硅还原法制备硅烷

3.2.4.1 工艺过程

3.2.4.2 主要反应

3.2.4.3 工艺特点

3.2.4.4 工艺法存在的问题

3.2.5 氯硅烷歧化法制备硅烷

3.2.5.1 工艺过程

3.2.5.2 主要反应

3.2.5.3 工艺特点

3.2.5.4 工艺法存在的问题

3.2.6 烷氧基硅烷歧化法

3.2.6.1 工艺过程

3.2.6.2 主要反应

3.2.6.3 工艺特点

3.2.6.4 工艺法存在的问题

3.3 高纯硅烷气体的净化工艺路线

3.3.1 气体的净化方法概述

3.3.2 高纯硅烷的净化过程

3.4 工业高纯硅烷气体的包装及贮运

第四章 国内外高纯硅烷生产与主要企业现况

4.1 世界高纯硅烷产销、市场规模的概况

4.2 国外高纯硅烷主要生产企业产销情况

4.3 国外高纯硅烷主要生产企业简况

4.3.1 rec silicon公司

4.3.2 dowcorning公司

4.3.3 sodiff新素材有限公司

4.3.4 memc公司

4.3.5 air liquid公司

4.3.6 日本电气工业公司

4.3.7 大阳日酸公司

4.3.8 evonik industries公司

4.4 国内硅烷业的发展概述

4.4.1 我国高纯硅烷业发展的概述

4.4.2 我国硅烷研发、生产的历史

4.5 国内高纯硅烷生产企业现况

4.5.1 国内高纯硅烷生产企业总述

4.5.2 浙江中宁硅业有限公司

4.5.3 浙江赛林硅业有限公司

4.5.4 滁州市硅谷特种气体有限公司

4.5.5 六九硅业有限公司

4.5.6 浙江金华美晶硅电子有限公司

4.5.7 黑龙江金业电子气体股份有限公司

4.5.8 深圳市金业长健新材料股份有限公司

第五章 高纯硅烷主要应用领域的概述

5.1 高纯硅烷在集成电路中的应用

5.1.1 集成电路芯片制程

5.1.2 化学气相沉积和气体应用

5.1.3 高纯硅烷在化学气相沉积中作为气源形成的薄膜

5.2 高纯硅烷在薄膜硅太阳电池中的应用

5.2.1 非晶硅薄膜太阳能电池

5.2.2 si薄膜的材料特性

5.2.3 非晶硅薄膜太阳能电池制作工艺及高纯硅烷其应用

5.3 高纯硅烷在液晶显示器中的应用

5.4 高纯硅烷在其它领域的应用

5.4.1 在特种玻璃制造中的应用

5.4.2 在电子部件制造中的应用

5.4.3 在化合物半导体材料制造中的应用

5.4.4 在化合物半导体材料制造中的应用

5.4.5 在军工、航天产品中作为气体燃料得到应用

5.5 高纯硅烷在电子信息产品中各应用市场需求量的测算

第六章 高纯硅烷主要应用市场之——集成电路产业的现况与趋势

6.1 世界半导体硅片生产与市场发展

6.1.1 世界半导体生产的现况

6.1.2 世界半导体硅片的生产状况

6.2 我国半导体晶圆生产与市场现况与发展

6.2.1 我国集成电路市场、产业发展现状

6.2.2 我国集成电路晶圆制造业情况

第七章 高纯硅烷主要应用市场之——薄膜太阳能电池产业的现况与趋势

7.1 国内外光伏产业的发展

7.1.1 世界光伏产业的快速发展

7.1.2 我国光伏产业发展环境与现况

7.2 薄膜太阳能电池的生产与市场

7.2.1 薄膜太阳能电池特点及品种

7.2.2 薄膜太阳能电池未来市场发展前景

7.2.3 薄膜太阳能电池生产及在光伏市场上的份额变化

7.3 国内外薄膜太阳能电池的主要生产企业

第八章 高纯硅烷主要应用市场之——液晶显示器产业的现况与趋势

8.1 世界平板显示器产业发展现况

8.2 我国平板显示器产业现况与未来发展预测

8.2.1 我国液晶显示产业发展概述

8.2.2 我国lcd面板生产现况与未来几年发展预测

8.2.3 我国发展平板显示产业的相关政策及未来发展的预测、分析

图表目录:

图表:高纯硅烷结构图

图表:工业化的高纯硅烷产品实物

图表:半导体制造业用特种气体按其使用时的特性分类情况

图表:典型半导体晶元工厂的电子特种气体供应系统流程图

图表:全球半导体工业用主要几种高纯度气体的市场规模变化情况

图表:吸附法提纯硅烷的流程示意

图表:世界近年的高纯硅烷产销量

图表:2014年世界主要高纯硅烷生产企业市场份额推估

图表:2009年~2014年世界主要高纯硅烷生产地区的产销量比例变化

图表:2014年高纯硅烷产品在世界各个主要应用市场中的产销量比例统计

图表:rec硅材料公司设在华盛顿州的高纯硅烷及多晶硅生产厂

图表:ic硅片制造前工程的过程

图表:各种cvd法反应装置的原理

图表:化学气相沉积通常包括的八个主要步骤

图表:化学气相沉积过程中的传输、反应和成膜的过程示意图

图表:dram中使用的各种薄膜

图表:逻辑lsi中使用的各种薄膜

图表:si基薄膜的种类、特征及晶体结构

图表:si基薄膜太阳能电池的基本结构

图表:非晶硅薄膜太阳能电池制作工艺过程

图表:采用pecvo 形成si薄膜的制作

图表:tft 阵列构成及sih4在其中的应用

图表:等离子体cvd加工工序及sih4等电子特气在其的供应系统

图表:所示了采用等离子体cvd法制作tft阵列的实际装备例

图表:世界高纯硅烷产品在四大应用市场领域所占的市场需求量的份额变化

图表:2004-2014全球半导体市场规模和年增幅

图表:世界不同直径尺寸硅片市场发展趋势

图表:2001-2014年全球硅片出货量变化率

图表:2001-2014全球硅片销售收入变化率

图表:全球硅片出货量按尺寸计预测

图表:20062014年我国半导体及集成电路产销情况

图表:2005-2014年我国集成电路晶圆业发展规模

图表:2014年全球光伏市场构成

图表:2004-2014年中国太阳能电池产量

图表:2006~2014年世界及我国光伏年装机量

图表:2007-2014年世界薄膜太阳能电池产能统计及预测

图表:2009-2014年世界薄膜太阳能电池产量统计及预测

图表:2008-2014年世界液晶显示器面板出货量统计及预测

图表:2004-2014年平板电视在世界主要国家、地区的普及情况

图表:20052014年我国lcd面板的市场规模统计、预测

图表:我国tft-lcd面板的产能统计及未来几年发展预测

图表:20052014年我国tft-lcd面板各代线在国内总产能的比例变化

图表:高纯气体的种类

图表:电子特种气体的主要品种及分类

图表:国外主要大型电子特气企业在主导生产工艺路线及所达到纯度的情况

图表:国外半导体、光伏用高纯硅烷的主要性能指标

图表:几种高纯硅烷工业化制备的典型工艺法的特点

图表:硅烷及杂质氢化物的沸点和相对分子质量

图表:20092013年全世界高纯硅烷主要生产厂家在世界市场所占份额

图表:集成电路生产中采用cvd形成各种薄膜所使用气体源的情况

图表:2014年世界主要大型半导体厂家的销售收入统计

图表:20022014年世界硅片出货量及销售收入情况

图表:semi对世界硅片的出货量的统计及预测

图表:硅片尺寸、质量要求与所对应的集成电路工艺技术的发展

图表:2014年国内十大集成电路和分立器件制造企业列表

图表:20062014年我国国内半导体级晶圆产量变化统计

图表:我国集成电路晶圆制造业在半导体产 业中占有的比重情况

图表:2000-2014年我国晶圆生产线建线增长情况

图表:我国集成电路晶圆制造6英寸以上生产线产能和工艺技术水平情况

图表:2007-2014年我国太阳能电池出口情况

图表:2007-2014年我国太阳能电池进口情况

图表:近几年全球薄膜太阳能电池产量及市场份额

图表:国外主要薄膜太阳能电池生产厂家

图表:境外薄膜太阳能电池生产厂家情况

图表:我国国内薄膜太阳能电池生产厂家的情况

图表:lcd中下游市场的划分

图表:全球平板显示器在不同应用的需求市场的规模

图表:2014年全世界g5以上tft-lcd产能比较

图表:我国tft-lcd液晶面板线分布(至2014年底)

【关键词Tag】电子工程用高纯硅烷行业研究报告 电子工程用高纯硅烷行业研究分析报告 电子工程用高纯硅烷行业市场研究分析咨询报告

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